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簡(jiǎn)要描述：VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
產(chǎn)品型號(hào)：VTC-16-1HD廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時(shí)間：2025-05-30訪 問 量：1881產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。單靶磁控濺射儀配備有一個(gè)靶槍，可選擇強(qiáng)磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非導(dǎo)磁材料的濺射鍍膜，強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
1、一個(gè)靶槍，配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、靶頭在樣品臺(tái)正下方，脆性靶材安裝更方便，樣品不易被污染。
3、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
4、體積小，操作簡(jiǎn)便。
| 產(chǎn)品名稱 | VTC-16-1HD單靶磁控濺射儀 |
| 產(chǎn)品型號(hào) | VTC-16-1HD |
| 安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
| 主要參數(shù) | 1、電源電壓：220v 50Hz |
| 產(chǎn)品規(guī)格 | 14、產(chǎn)品規(guī)格： |
| 標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1直流電源控制系統(tǒng)1套 |
| 可選配件 | 1、金、銦、銀、白金等各種靶材，可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。 |
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