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詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產地類別 | 國產 | 應用領域 | 電子/電池,鋼鐵/金屬,綜合 |
產品簡介
VTC-600GC-AM連續式多腔室磁控濺射鍍膜系統是新自主研制開發的鍍膜設備，主要由傳遞室和濺射鍍膜室兩部分組成，基片架可以在傳遞室和濺射室實現往復運動，由調頻電機控制，自動同步運行，且往復位置和運動速度均可以設定，兩室內均有定位功能，可實現原點復位。可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GC-AM連續式多腔室磁控濺射鍍膜系統可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。
主要特點
由傳遞室和濺射鍍膜室兩大部分組成，可實現快速連續的進樣濺射鍍膜。
可選配多個靶槍，配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據客戶需要任意調換）。
可制備多種薄膜，應用廣泛。
體積小，操作簡便。
整機模塊化設計，傳遞室、真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據用戶實際需要調整。
可根據用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。
技術參數
產品名稱 | VTC-600GC-AM連續式多腔室磁控濺射鍍膜系統 |
產品型號 | VTC-600GC-AM |
主要參數 | 1、結構：臺式前開門結構，后置抽氣系統。 |
2、極限真空：6.0X10-5Pa。 | |
3、漏率：1h≤0.5Pa。 | |
4、抽氣時間大氣至5.0X10-3約5分鐘。 | |
5、真空泵組：機械泵+分子泵。 | |
6、樣品臺:φ140、室溫-500℃、精度±1℃ （可根據實際需要提升溫度） 自轉5rpm-20rpm內可調。 可根據客戶需求選配加裝偏壓功能， 以實現更高質量的鍍膜。 | |
7、加氣系統：質量流量計2路。 （氬氣/氮氣各一路） | |
8、靶頭與樣品臺中軸線夾角為34° | |
9、靶頭數量：3個（互成120°）。（可定制更多數量） | |
10、 靶槍冷卻方式：水冷 | |
11、靶材尺寸：φ2″，厚度0.1-5mm （因靶材材質不同厚度有所不同） |
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