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1200℃七溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-VII（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。

1200℃五溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-V（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。

1200℃五溫區開啟式管式爐OTF-1200X-V每個溫區分別由獨立的溫控系統控制，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區域。本機用于高等院校、科研院所、工礦企業等實驗或小批量生產，主要針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝。具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。

1200℃三溫區開啟式管式爐OTF-1200X-Ⅲ-S每個溫區分別由獨立的溫控系統控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多等特點。本機可通氣氛抽真空，操作簡單，安全可靠。

1200℃開啟式雙溫區管式爐OTF-1200X-IIZ高溫度可達到1200℃，并可通過調節兩個獨立的控溫程序，使爐管內溫度場形成一梯度。本機可用CVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

1200℃開啟式管式爐OTF-1200X-5L是一款單溫區管式爐，爐管直徑Φ 5″，長1400mm ，Z高溫度可達到1200℃。本機可在各種氣氛保護下對樣品進行熱處理、沉積、燒結，是一款的實驗設備。